Fisici canadesi del National Research Council, hanno realizzato un nuovo metodo più semplice di litografia che non richiede alcun processo di riscaldamento, corrosione o esposizione ai fotoni. La litografia è il processo per la messa a punto dei microchip, con il quale si realizza, per mezzo di procedure chimiche, di irradiazione e riscaldamento, la componentistica dei circuiti.

Solitamente, un metodo che viene sperimentato consiste nell'utilizzo di microscopi che scansionano a effetto tunnel. Con questi dispositivi gli atomi e le molecole vengono mossi singolarmente per ottenere strutture molto piccole.

Nel nuovo metodo, messo a punto dai fisici canadesi, si ricopre con un singolo strato di molecole di benzene la superficie di silicio. Gli schermi vengono prodotti semplicemente rimuovendo selettivamente il benzene. La risoluzione spaziale degli schemi è di 2 nanometri. Inoltre, Nelle aree ripulite può essere posizionata la molecola dell'etilene che, una volta riscaldata, crea strutture di carburo di silicio.

Il nuovo metodo è stato recentemente pubblicato dalla rivista “Applied Physics Letters”.

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